
2002 年至 2008 年間,國巨基金會與亞洲文化協會 (Asian Cultural Council,簡稱 ACC) 一同發起「國巨科技藝術創作獎」,每年贊助一位台灣藝術家至紐約的科技藝術村
Location One 進行為期 6 個月的駐村,參與為提升創意表達與呈現所設計的進修與活動。國巨科技藝術創作獎設立的目的是為激勵在地藝術家、提升科技藝術在台灣的發展,以及促進台灣藝術家與國際藝術社群間的文化交流。所有的申請者皆經過評審團的評選,評審委員包含來自國巨基金會、台灣各大院校、亞洲文化協會,甚至是泰德利物浦美術館的代表。
受獎人
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2008
蘇匯宇
b.1976 -
2007
曾御欽
b.1978 -
2006
徐瑞憲
b.1966 -
2005
王雅慧
b.1973 -
2004
吳達坤
b.1974 -
2003
蕭聖健
b.1968 -
2002
林俊廷
b.1970